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九峰山實驗室推出全國首個100nm高性能氮化鎵流片PDK平臺

• 近日，九峰山實驗室發(fā)布國內(nèi)首個100 nm硅基氮化鎵商用工藝設計套（PDK），性能指標達到國內(nèi)領先、國際一流水平。作為全球第二個、國內(nèi)首個商用方案，其技術(shù)指標可支撐高通量Ku/Ka頻段低軌衛(wèi)星通信，能夠滿足下一代移動通信、商用衛(wèi)星通信與航天領域、車聯(lián)網(wǎng)及工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)、手機終端等多領域?qū)Ω哳l、高功率、高效率氮化鎵器件的需求，推動我國相關(guān)領域器件從“進口替代”邁向“技術(shù)輸出”。PDK（Process Design Kit，工藝設計套件）是半導體制造中不可或缺的工具包。它為芯片設計者提供工藝參數(shù)、器件模型、設計規(guī)
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