打破技術壁壘 加快ITO靶材產業化進程

　　自主開發ITO靶材意義重大

　　目前工業ITO靶材都是以ITO粉末為原料經高溫燒結而成，其燒結成型方法主要有3種：熱壓法HP、冷等靜壓法CIP、高溫氣氛燒結法MMP。

　　國內目前ITO靶材的生產，多采用高成本的熱等靜壓工藝。該技術工藝生產的靶材，一旦產品規格超過200mm×200mm，就會出現斷裂、密度低等問題，而且在使用過程中，經常出現靶材中毒現象。這也是我國靶材行業落后于先進國家的主要原因之一。

　　自主開發生產ITO靶材對于促進我國平板顯示產業發展意義重大，主要表現在以下幾方面：

　　第一，打破技術壁壘，讓高端靶材不再依賴進口。國外對ITO靶材生產技術進行嚴密封鎖使我國對這一關鍵的信息功能材料的制造技術嚴重滯后，致使ITO靶材不得不長期依賴進口，嚴重阻礙了我國信息產業鏈的建立，限制了我國信息產業向高端發展。因此，必須優先發展具有我國自主知識產權的ITO靶材制備技術，加快ITO產業化建設，促進高端ITO靶材國產化進程。

　　第二，有利于資源保護，提高銦產品高附加值。突破限制我國平板顯示器產業鏈健康發展的瓶頸制約，對提高我國信息產業的核心競爭力，開發對稀缺金屬原材料的深加工具有重大的戰略意義和深遠歷史意義。

　　第三，填補我國ITO靶材在中、高端平板顯示器制造領域應用的空白。

　　第四，有利于ITO靶材平板生產工藝研究開發與人才培養。

　　第五，有利于提高國內ITO靶材原料加工、鍍膜等整體技術水平。

　　目前全球信息產業快速發展，我們應抓住ITO材料市場需求猛增的大好時機，加速ITO靶材的研發和產業化進程，打破發達國家設置的技術壁壘，促進ITO靶材國產化，改變目前ITO靶材主要依賴進口的現狀，實現我國成為光電產業領先國家的目標。